Présentation
curriculum vitae:
2018 : Assistant Ingénieur en élaboration de matériaux en couches minces au CNRS, laboratoire CIMAP (Centre de Recherche sur les Ions, les Matériaux et la Photonique, 120 membres).
2007 : Technicien de recherche (BAP B) du CNRS par mutation au laboratoire SIFCOM (Caen).
2003 : Technicien d'enseignement et de recherche, à l'Université de Versailles.
2001-2003 : Adjoint technique au laboratoire Matériaux et Procédés de l'École Centrale Paris.
1999-2001 : Adjoint technique au sein du lycée Raspail, département physique. Je suis en charge de définir des protocoles d’élaboration et de la fabriquer de films minces à l'aide de trois réacteurs de dépôt :
PVD : Deux bâtis de pulvérisation cathodique magnétron.
CVD : Un bâti de dépôt de couches atomiques (ALD).
L'élaboration inclut aussi le recuit sous atmosphères contrôlées (oxydante, réductrice, neutre) afin d'obtenir la structure finale des films minces. J'établis des modes opératoires adaptés à chaque matériau par une approche empirique combinant dépôt et caractérisation.
Je mets en œuvre et développe des méthodes avancées de structuration des substrats avant dépôt :
Anodisation électrochimique : Permet de créer des membranes poreuses en alumine servant de masque pour la croissance de nanostructures par ALD.
Photolithographie : Utilisation de lithographie sans masque pour la structuration d'électrodes métalliques et de motifs périodiques avant dépôt par ALD ou PVD.
Caractérisation des films minces
Les caractérisations effectuées permettent de contrôler les propriétés optiques et physiques des films déposés :
• Ellipsométrie spectroscopique
• Spectroscopie UV-visible, FTIR
• Spectroscopie de photoluminescence Gestion des stocks de consommables, Passation et suivi des commandes (42 000€ HT en 2024)
Participation à la rédaction de projets et à leur budget
Contribution à l'acquisition d'équipements scientifiques
• Rédaction de cahiers des charges techniques (exemple le CPER de 2024)
• Démarches auprès des fabricants, négociation de devis
Valorisation des équipements via des collaborations industrielles et académiques
Gestion de projets et acquisition d'équipements
• Réception et installation des nouveaux équipements.
• Tests de calibration et optimisation des processus.
Formation et encadrement
Formation des nouveaux utilisateurs et rédaction de guides techniques
• Formation des nouveaux arrivants (stagiaires, post-docs, doctorants).
• Encadrement d'étudiants de l'ENSICAEN et de Master 2 de l'Université de Caen.
• Formateur à l’ALD pour le personnel de Murata Integrated Passive Solutions (Caen).
Rédaction de protocoles et notices d'utilisation des appareils ou méthodes
Collaborations et activités scientifiques
• Partenariats avec des laboratoires français et étrangers (CEMES, CRISMAT, GREYC, Taïwan, Rép. Tchèque, Laboratoire commun IPDN avec Murata).
• Participation à la rédaction d'articles scientifiques et à des conférences.
Organisation du Workshop RAFALD 2022 (gestion des sponsors et logistique Participation aux forums des métiers de la recherche et salon des étudiants (de 2012 à 2017)
Membre du Conseil d'Unité (2016-2022).
Assistant de prévention en hygiène et sécurité au CIMAP
Domaines de recherche
Compétences
Publications
Publications
Optimization and Characterization of ALD-Deposited Nb₂O₅ for High-Performance MIM Capacitors. 10e édition du Workshop du GDR RAFALD (Réseau des Acteurs Français de l'ALD), Oct 2024, Nantes, France |
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Development of Advanced Bimetallic Oxide Photoelectrodes by ALD for Enhanced Hydrogen Production via Water Splitting10e édition du Workshop du GDR RAFALD (Réseau des Acteurs Français de l'ALD), Oct 2024, Nantes, France |
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Study of Nb2O5 High-k Dielectric Material Deposited By Atomic Layer Deposition for Metal-Insulator-Metal Capacitor244th ECS meeting, Oct 2023, Gôteborg, Sweden. ⟨10.1149/MA2023-02301556mtgabs⟩ |
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Integration of rare earth ions doped Si based down converter layers in an industrial Si solar cellE-MRS fall meeting 2019, Sep 2019, Varsovie, Poland |
DAYTIME RADIATIVE DEVICEFrance, Patent n° : EP2022063924/WO2022248413A1/FR2105377A. 2022 |