
Francoise Massines
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Documents
Publications
Publications
Synthesis of gold/polymer thin films in Ar and Ar/NH3 atmospheric-pressure dielectric barrier dischargesIEEE NANO 2024 (International Conference on Nanotechnology), Jul 2024, Gijòn, Spain
Communication dans un congrès
hal-04841667
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Synthesis of gold/polymer thin films in Ar and Ar/NH3 DBDHAKONE XVIII (18th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry), Sep 2024, Padova, Italy
Communication dans un congrès
hal-04841660
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Synthèse de nanocomposites or/polymère dans une décharge contrôlée par barrière diélectrique en Ar et Ar/NH3GDR EMILI 2023 (Étude des Milieux Ionisés : Plasmas froids créés par décharge et laser), Oct 2023, Nancy, France
Communication dans un congrès
hal-04841674
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Spectroscopic Study of NH3-to-H2 Conversion in an Ar-NH3 Dielectric Barrier Discharge at Atmospheric PressureInternatioanl Plasma Chemistry Conference, ISPC 25, May 2023, Kyoto (Japan), Japan
Communication dans un congrès
hal-04844049
v1
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Dual RF-LF dielectric barrier discharge at atmospheric pressurePlasma Processing Science Gordon Research Conference, Aug. 5-10, 2018, Bryant University, Smithfield, RI (USA), 2018, Smithfield, United States
Communication dans un congrès
hal-03964794
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Excitation of dielectric barrier discharge using sinusoidal and nanosecond waveform: application to silicon solar cell22nd International Symposium on Plasma Chemistry, Jul 2015, Antwerp, Belgium
Communication dans un congrès
hal-01866309
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Atmospheric Pressure Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition by Homogeneous Dielectric Barrier DischargeAVS 56th International Symposium, San-Jose USA, 2009, San-Jose, United States
Communication dans un congrès
hal-04164984
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Thin films by means of homogeneous dielectric barrier discharges at atmospheric pressureCIP 2009: 17th International Colloquium on Plasma Processes, Marseille, France, 2009, Marseille, France
Communication dans un congrès
hal-04164982
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APGD and APTD for the deposition of silicon based thin films from N2O/HMDSO mixtures: application to gas-barrier layersISPC 19: 19th International Symposium on Plasma Chemistry, Bochum, Germany., 2009, Bochum, Germany
Communication dans un congrès
hal-03988381
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Silicon-based coatings by Atmospheric Pressure Townsend DischargeIII Central European Symposium on Plasma Chemistry, Kiev, Ukraine, 2009, Kiev, Ukraine
Communication dans un congrès
hal-04164983
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Passivating and physico-chemical properties of silicon nitride deposited by atmospheric pressure plasma for photovoltaic applicationEPVSEC: 23e Conférence européenne sur l'énergie photovoltaique, Valence, SPAIN, 2008, Valence, Spain
Communication dans un congrès
hal-03988380
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Active species generation of homogeneous DBD in N2: experiment and modellingHAKONE XI: 11th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, Ile d’Oléron, France., 2008, Ile d’Oléron, France
Communication dans un congrès
hal-03988375
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Atmospheric pressure plasma for deposition of hydrogenated silicon nitride SiNx:H films for photovoltaic applicationEPVSEC: 23e Conférence européenne sur l'énergie photovoltaique, Valence, SPAIN, 2008, Valence, Spain
Communication dans un congrès
hal-03988379
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Homogeneous DBD in N2: 1) LIF, TALIF and electrical measurementsAPS Meetings: 61st Annual Gaseous Electronics Conference, Dallas, USA, 2008, Dallas, United States
Communication dans un congrès
hal-03988376
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The influence of the flow dynamics on deposition uniformity in townsend discharge at atmospheric pressureHAKONE XI: 11th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, Ile d’Oléron, France., 2008, Ile d’Oléron, France
Communication dans un congrès
hal-03977059
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Comparision of Townsend Dielectric Barrier Discharge in N2, N2-O2 and N2-N2O: behaviour and radicals density35th EPS Plasma Physics Conference, Hersonissos, Crète, GREECE, 2008, Hersonissos, Greece
Communication dans un congrès
hal-03988378
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Etude d’une décharge contrôlée par barrière diélectrique homogène à la pression atmosphérique en mélange N2-O2 et N2-N2OXème Congrès de la Division Plasma de la SFP, Paris, France, 2008, Paris, France
Communication dans un congrès
hal-03988377
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Influence of NH3/SiH4 ratio on amorphous silicon nitride coatings deposited with Ar/NH3/SiH4 homogeneous DBDHAKONE XI: 11th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry, Ile d’Oléron, France., 2008, Ile d’Oléron, France
Communication dans un congrès
hal-03988374
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Silicon Based Coatings by Means of Glow and Townsend Dielectric Barrier DischargesAVS 54th International Symposium & Exhibition, Seattle, U.S.A., 2007, Seattle, United States
Communication dans un congrès
hal-04165095
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Plasma-enhanced deposition of polymer-like silicon based coatings produced from Hexamethyldisiloxane at low and atmospheric pressureCIP 2007: 16th International Colloquium on Plasma Processes, Toulouse, France, 2007, Toulouse, France
Communication dans un congrès
hal-03977095
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Radical transport in a PECVD process at atmospheric pressureISPC-18: International Symposium on Plasma Chemistry, Kyoto, Japan, 2007, Kyoto, Japan
Communication dans un congrès
hal-03977057
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Comparison of N2-O2 and N2-N2O Townsend Dielectric Barrier DischargeISPC-18: International Symposium on Plasma Chemistry, Kyoto, Japan, 2007, Kyoto, Japan
Communication dans un congrès
hal-03988373
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About the role of wire mesh electrodes to get an homogeneous dielectric barrier discharge in air at atmospheric pressureISPC-18: International Symposium on Plasma Chemistry, Kyoto, Japan, 2007, Kyoto, Japan
Communication dans un congrès
hal-03988372
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Organosilicon plasma deposition on microstructured substrate by microwave low pressure discharge and Atmospheric Pressure Townsend dischargeISPC-18: International Symposium on Plasma Chemistry, Kyoto, Japan, 2007, Kyoto, Japan
Communication dans un congrès
hal-03977056
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Time Varying Plasmas and Afterglows for Surface TreatmentsPlasmas Afterglows with N2 for Surface Treatments− Edition 2, BP International, pp.139--154, 2022, 978-93-5547-643-2. ⟨10.9734/bpi/mono/978-93-5547-643-2/CH15⟩
Chapitre d'ouvrage
hal-04750977
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Introduction : le réseau Plasmas froids et la Mission des Ressources et Compétences Technologiques du CNRSMassines, Françoise. Plasmas froids. Génération, caractérisation et technologies, 3, PUSE-MRCT-CNRS, pp.11-16, 2004, Intégrations [des savoirs et savoir-faire], 2862723398
Chapitre d'ouvrage
hal-01481540
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Plasmas hors-équilibre à des pressions atmosphériquesMassines, Françoise. Plasmas froids. Génération, caractérisation et technologies, 3, PUSE-MRCT-CNRS, pp.49-108, 2004, Intégrations [des savoirs et savoir-faire], 2862723398
Chapitre d'ouvrage
hal-01481541
v1
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CPCN - BILAN DE MANDATURE 2016 – 20212021
Pré-publication, Document de travail
hal-03413289
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Commission interdisciplinaire 50 « Gestion de la recherche » - Rapport de conjoncture 2019Comité national de la recherche scientifique. 2019
Rapport
hal-02320221
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Procédé et dispositif de production d’une décharge homogène sur substrats non isolantsFrance, N° de brevet: FR2923945A1. 2007
Brevet
hal-04093042
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Plasmas froids. Génération, caractérisation et technologiesMottin, Stéphane and Lelièvre, Gérard. MRCT-CNRS, 3, pp.420, 2004, Intégrations [des savoirs et des savoir-faire], Mottin, Stéphane, 978-2862723396
Ouvrages
hal-01500948
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Plasmas froids. Réactivité en volume et en surfaceMottin, Stéphane and Lelièvre, Gérard. MRCT-CNRS, 4, pp.280, 2004, Intégrations [des savoirs et des savoir-faire], Mottin, Stéphane, 978-2862723402
Ouvrages
hal-01500949
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