Vincent Rouessac
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Affiliations actuelles
- 1100821
Identifiants chercheurs
- v-rouessac
- ResearcherId : B-4269-2013
- IdRef : 124822010
- 0000-0002-5916-5948
- VIAF : 216300359
- Google Scholar : https://scholar.google.com/citations?user=b9KM7x0AAAAJ&hl=fr
- ResearcherId : http://www.researcherid.com/rid/B-4269-2013
Présentation
Chargé de recherche au CNRS (section 15) depuis 1999 et habilité à diriger des recherches (HDR) depuis 2007.
**Vincent ROUESSAC**, ingénieur ENSCI-Limoges, a débuté sa carrière de chercheur scientifique par une thèse de doctorat en Matériaux et Génie des Procédés de l’Université de Caen qu’il a soutenue en 1997. Il a ensuite effectué une année en tant que post-doctorant à l’ISEM-Wollongong (Australie-NSW) sur la même thématique : les céramiques texturées supraconductrices cuprates de bismuth HTC. Depuis son intégration au Laboratoire des Matériaux et Procédés Membranaires en 1999 (devenu IEM en 2000), il s’est spécialisé dans le traitement par plasma et la technique PECVD en particulier pour des membranes permsélectives aux gaz. Il s’est aussi spécialisé dans le domaine des techniques couplées pour la caractérisation de la porosité des couches minces et membranes supportées (EP, QCM/P,…). Début 2018, **Vincent ROUESSAC** est co auteur de plus de 80 articles de journaux internationaux à comité de lecture (H=20 ; >1000 citations), co auteur de 5 chapitres d’ouvrage, a présenté 28 communications orales lors de séminaires et congrès nationaux et internationaux (81 en coauteur), a supervisé et co supervisé 8 thèses de doctorat.
Publications
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Oral : "Pore sealing of nanoporous hybrid thin films studied by ellipsometric porosimetry"4th Workshop Ellipsometry, 2006, Berlin, Germany
Communication dans un congrès
hal-00080027v1
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Affiche : "Characterization of the impact of plasma treatments and wet cleaning on a porous low k material"MAM 2006, 2006, Grenoble, France
Communication dans un congrès
hal-00080070v1
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Affiche : "Adsorption-desorption isotherms of nanoporous thin films measured by X-Ray reflectometry"E-MRS (Material Research Society) - May 31-June 3rd, 2005, 2005, Strasbourg, France
Communication dans un congrès
hal-00083094v1
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Porosity and structure evolution of a SiOCH low k material during post-etch cleaning process2007 MRS Spring Meeting, Apr 2007, San Franscico, United States. 2007
Poster de conférence
hal-00275109v1
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Communication par Affiche : "How ellipsometry can characterize a gas diffusion barrier"2006
Autre publication scientifique
hal-00128626v1
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