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Influence of the annealing schemes on the formation and stability of Ni(Pt)Si thin films: partial, laser, total, and unique anneal
Fabriziofranco Morris Anak
,
Andrea Campos
,
Magali Gregoire
,
Adrien Estellon
,
Marc Lombard
et al.
Article dans une revue
hal-04789456
v1
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C54-TiSi$_2$ formation using nanosecond laser annealing of A-Si/Ti/A-Si stacks
Réda Guelladress
,
Sébastien Kerdilès
,
Mélanie Dartois
,
Chiara Sabbione
,
Magali Gregoire
et al.
Article dans une revue
cea-04770913
v1
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Influence of the annealing schemes on the formation and stability of Ni(Pt)Si thin films: Partial, laser, total, and one-step annealings
Fabriziofranco Morris Anak
,
Andréa Campos
,
Magali Grégoire
,
Adrien Estellon
,
Marc Lombard
et al.
Article dans une revue
cea-04765828
v1
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On the influence of Ni(Pt)Si thin film formation on agglomeration threshold temperature and its impact on 3D imaging technology integration
M. Grégoire
,
F. Morris Anak
,
S. Verdier
,
K. Dabertrand
,
S. Guillemin
et al.
Article dans une revue
hal-04285798
v1
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Ni(Pt)-based CMOS-compatible contacts on p-InGaAs for III–V photonic devices
Flore Boyer
,
Karen Dabertrand
,
Nicolas Bernier
,
Christophe Jany
,
Patrice Gergaud
et al.
Article dans une revue
hal-04742893
v1
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Influence of Si surface preparation on CoSi2 formation and agglomeration
Andréa Newman
,
Andrea Campos
,
David Pujol
,
Pascal Fornara
,
Magali Gregoire
et al.
Article dans une revue
hal-04285750
v1
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Optimized emitter-base interface cleaning for advanced Heterojunction Bipolar Transistors
E. Brezza
,
F. Deprat
,
C. de Buttet
,
A. Gauthier
,
M. Gregoire
et al.
Article dans une revue
hal-04084450
v1
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Impact of the pre amorphization by Ge implantation on Ni$_{0.9}$Pt$_{0.1}$ silicide
C. Delwail
,
S. Joblot
,
F. Mazen
,
F. Abbate
,
L. Lachal
et al.
Article dans une revue
hal-03863804
v1
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Platinum redistribution in the Ni0.9Pt0.1/InP system: Impact on solid-state reaction and layer morphology
F. Boyer
,
K. Dabertrand
,
P. Gergaud
,
M. Grégoire
,
Quentin Rafhay
et al.
Article dans une revue
hal-04742836
v1
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IMPACT OF NANOSECOND LASER ENERGY DENSITY ON THE C40-TiSi2 FORMATION AND C54-TiSi2 TRANSFORMATION TEMPERATURE.
Laura Esposito
,
S. Kerdiles
,
M. Gregoire
,
P. Benigni
,
K. Dabertrand
et al.
Article dans une revue
hal-02922876
v1
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Integration of the Ni/InP system on a 300 mm platform for III-V/Si hybrid lasers
Flore Boyer
,
Patrice Gergaud
,
Karen Dabertrand
,
Denis Mariolle
,
Christophe Jany
et al.
Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics, 2020, 38 (1), pp.012209. ⟨10.1116/1.5128554⟩
Article dans une revue
hal-04743063
v1
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Integration, BEOL, and Thermal Stress Impact on CMOS-Compatible Titanium-Based Contacts for III–V Devices on a 300-mm Platform
F. Boyer
,
K. Dabertrand
,
C. Jany
,
P. Gergaud
,
N. Coudurier
et al.
Article dans une revue
hal-04743053
v1
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Redistribution of phosphorus during Ni 0.9 Pt 0.1 -based silicide formation on phosphorus implanted Si substrates
M. Lemang
,
Ph. Rodriguez
,
F. Nemouchi
,
M. Juhel
,
M. Grégoire
et al.
Article dans une revue
hal-01728691
v1
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Redistribution of phosphorus during NiPtSi formation on in-situ doped Si
M. Lemang
,
Ph. Rodriguez
,
M. Gregoire
,
M. Juhel
,
B. Saidi
et al.
Article dans une revue
hal-02403309
v1
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Boron atomic-scale mapping in advanced microelectronics by atom probe tomography
Robert Estivill
,
Marc Juhel
,
Germain Servanton
,
Magali Grégoire
,
Fréderic Lorut
et al.
Article dans une revue
hal-01765934
v1
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Thermal stability of Ni1-uPtu (0 < u < 0.15) germanosilicide
E. Bourjot
,
M. Gregoire
,
F. Nemouchi
,
Dominique Mangelinck
Article dans une revue
hal-01694204
v1
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Ultra-thin dielectric insertions for contact resistivity lowering in advanced CMOS: Promises and challenges
Julien Borrel
,
Louis Hutin
,
Donato Kava
,
Rémy Gassilloud
,
Nicolas Bernier
et al.
Article dans une revue
hal-03325004
v1
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Modeling of Fermi-level pinning alleviation with MIS contacts: n and pMOSFETs cointegration considerations-Part I
Julien Borrel
,
Louis Hutin
,
Olivier Rozeau
,
Marie-Anne Jaud
,
Sebastien Martinie
et al.
Article dans une revue
hal-03325007
v1
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Modeling of Fermi-level pinning alleviation with MIS contacts: n and pMOSFETs cointegration considerations-Part II
Julien Borrel
,
Louis Hutin
,
Olivier Rozeau
,
Marie-Anne Jaud
,
Sebastien Martinie
et al.
Article dans une revue
hal-03325006
v1
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Atomic Scale Investigation of Arsenic Segregation in High-k Metal Gate Stacks
Robert Estivill
,
Marc Juhel
,
Magali Gregoire
,
Adeline Grenier
,
Vincent Delaye
et al.
Article dans une revue
hal-01954200
v1
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Kinetics study of NiPt(10 at.%)/Si0.7Ge0.3 solid state reactions
E. Bourjot
,
Magali Putero
,
C. Perrin-Pellegrino
,
P. Gergaud
,
Magali Gregoire
et al.
Article dans une revue
hal-01951263
v1
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Impact of local back biasing on performance in hybrid FDSOI/bulk high-k/metal gate low power (LP) technology
C. Fenouillet-Beranger
,
P. Perreau
,
T. Benoist
,
C. Richier
,
S. Haendler
et al.
Article dans une revue
istex
hal-01002051
v1
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